创新理念 品质出彩

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高性能聚酰亚胺薄膜

高性能聚酰亚胺薄膜

WXCPI-091
聚酰亚胺薄膜(WXCPI-091)是由均苯四甲酸二酐(PMDA)和二胺基二苯醚(ODA)在强极性溶剂中经缩聚并流延成膜再经亚胺化而成。该膜具有优良的物理、化学、电气绝缘性能,并且耐高低温、耐溶剂、耐原子辐射,能在-269℃至400℃(-452°F至752°F)的温度范围内长期使用。
高性能聚酰亚胺薄膜

高性能聚酰亚胺薄膜

WXCPI-073
聚酰亚胺薄膜(WXCPI-073)是由均苯四甲酸二酐(PMDA)和二胺基二苯醚(ODA)在强极性溶剂中经缩聚并流延成膜再经亚胺化而成。该膜具有优良的物理、化学、电气绝缘性能,并且耐高低温、耐溶剂、耐原子辐射,能在-269℃至400℃(-452°F至752°F)的温度范围内长期使用。
高性能聚酰亚胺薄膜

高性能聚酰亚胺薄膜

WXCPI-052
聚酰亚胺薄膜(WXCPI-052)是由均苯四甲酸二酐(PMDA)和二胺基二苯醚(ODA)在强极性溶剂中经缩聚并流延成膜再经亚胺化而成。该膜具有优良的物理、化学、电气绝缘性能,并且耐高低温、耐溶剂、耐原子辐射,能在-269℃至400℃(-452°F至752°F)的温度范围内长期使用。
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